▲ 한국수자원공사, 한국국토정보공사와 공간정보 협력체계 구축 업무협약 체결[출처=한국수자원공사]한국수자원공사(K-water, 사장 윤석대)에 딸면 4월24일(목) 전북 전주시에 위치한 LX한국국토정보공사 본사에서 ‘공간정보 협력체계 구축을 위한 업무협약’을 체결했다.협약의 주요 내용은 △공공사업 추진을 위한 공간 정보체계 협력 △디지털 국토 플랫폼 활용 및 기관 간 시스템 연계 협력 강화 △지적 및 공간정보 분야 사업 발굴 및 공동 연구·교육 협력 등이다.이번 협약으로 한국수자원공사는 댐, 수도 등 물 인프라 건설·관리의 전체 과정에서 한국국토정보공사의 지적측량 결과를 반영한 지적중첩도를 활용하게 된다.지적중첩도란 지적도(토지의 경계와 정보를 담은 도면)에 다른 공간정보(위성사진, 토지이용계획도, 도로망도 등)를 겹쳐서 표현해 실제 지형과 지적을 일치시킨 도면을 말한다.지적중첩도의 정확한 토지 정보를 기반으로 앞으로의 물 인프라 사업에서 설계 면적과 측량 면적의 불일치 문제를 해소해 사업 지연을 사전에 방지하고 불필요한 민원을 최소화하는 등 공사, 보상 등 사업 공정의 효율을 높일 수 있을 것으로 기대된다.또한 한국수자원공사와 한국국토정보공사 간 토지 정보시스템을 연계해 데이터 기반의 토지 관리 체계를 구축하고 공동 연구를 비롯한 새로운 지적 분야의 사업 발굴에도 힘쓸 예정이다.장병훈 한국수자원공사 수자원환경부문장은 “LX한국국토정보공사와의 이번 공간정보 체계 구축 협약으로 앞으로 설계부터 건설, 보상까지 더욱 정확하고 신속하게 추진해 나갈 것이다”며 “국가 물관리 전담 기관으로서 사업을 적기에 진행하고 대국민 서비스를 강화할 수 있도록 노력하겠다”고 강조했다.

▲ 인천항만공사, 2025 트라이아웃 스마트 엑스 씨포트(TRYOUT Smart-X Seaport)’ 참여 기업 모집[출처=인천항만공사]인천항만공사(www.icpa.or.kr, 사장 이경규)에 따르면 2025년 4월14일(월)부터 5월7일(수)까지 인천스타트업파크와 함께 창업기업 실증 지원 프로그램 ‘2025 트라이아웃 스마트 엑스 씨포트(TRYOUT Smart-X Seaport)’에 참여할 기업을 모집한다.본 프로그램은 인천스타트업파크 협력파트너로 참여하는 공공기관 또는 민간기업의 보유 자원을 활용해 인천지역 창업기업에 현장 실증 기회를 제공하는 프로그램이다.공사는 올해 △건설도면 관리 △양중 시스템 개선 △수목 관리 등 안전·환경 관련 직무에서 개선이 필요한 과제에 대해 오픈이노베이션형 창업기업 3개사를 모집한다.오픈이노베이션(Open Innovation)은 기업 혁신을 위해 내부의 기술과 자원을 외부에 공유해 새로운 제품이나 서비스를 만들어 내는 개방형 혁신전략을 말한다.선정된 기업은 인천스타트업파크로부터 △최대 5000만 원의 실증 지원금(기업당 평균 2700만 원) △민간 창업기획자(액셀러레이터)의 실증 컨설팅 △투자 프로그램 연계 등의 지원을 받을 수 있다.공사는 2022년 인천광역시, 인천경제자유구역청, 인천스타트업파크와 공공 실증 협력 파트너십 협약을 체결하고 프로그램에 참여해 현재까지 창업기업 9개사의 항만 현장 실증을 지원했다.인천항만공사 신재완 이에스지(ESG)경영실장은 “창업기업이 쉽게 접근하기 어려운 항만시설 등을 실증 자원으로 제공해 항만·안전 분야 기술 성장을 지원할 것이다”며 “앞으로도 인천스타트업파크와 적극 협력해 인천지역 창업기업 육성에 기여할 수 있도록 노력하겠다”고 강조했다.

▲ 미국 특허청 특허등록 이미지미국 특허 명세서의 요약(Summary)은 발명의 배경(background of Invention)에서 기술된 문제에 대한 해법을 설명한다. 즉, 발명이 어떻게 종래 기술의 문제를 해결하는지를 해설한다.출원서의 거의 모든 청구 범위를 명세서의 요약에 기술할 것이 권고된다. 발명의 중요 형태를 기술하는 독립항과 중요한 종속항은 명세서의 요약에 기술하는 것이 좋다.발명의 비자명성에 대해 다툼의 여지가 있는 모든 것을 명세서의 요약에 기술하는 것이 바람직하다. 미국 특허법 35 U.S.C. §112의 규정을 충족하기 쉽기 때문이다.발명의 상세한 설명보다 더 배심원에 의해 읽혀질 가능성이 높다. 일반적으로 명세서의 요약을 잘 쓰기 위해서는 다음과 같은 3가지를 유의해야 한다.첫째, 명세서의 요약에서는 최소한의 범위에서 넓게 잡은 청구범위를 함축적으로 표현해야 한다. 명세서의 요약에 작성된 내용과 가장 넓은 청구 범위 사이에 1:1 대응을 요구하는 외국 출원의 요건을 동시에 만족시킬 수 있기 때문이다.둘째, 미국 특허법 35 U.S.C. §112의 규정을 충족하도록 발명의 상세한 설명에서 서술된 내용에 의존하는 일반적인 용어로 기술해야 한다.셋째, 출원서의 가장 넓은 청구범위를 최소한 다시 작성해야 한다. 즉, 가능한 법적이지 않은 것을 사용해 가장 넓은 청구 범위를 일련의 문장으로 변경해야 한다. 발명의 본질을 파악하기 싶도록 제공하기 위한 목적이다.도면의 간단한 설명(Brief description of the drawings)은 발명을 보여준다는 차원에서 발명의 모든 것을 도면에 포함하는 것이 중요하다. "version of the invention" 또는 "embodiment of the invention"의 용어를 사용하는 것이 좋다.

▲ 미국 특허청 특허등록 이미지미국 특허 명세서에서의 도면에 관한 규정은 미국 특허 규칙 37 C.F.R. §1.84 및 특허 심사 지침 M.P.E.P §608.02에 상세히 설명된다.이에 따르면 미국 특허청의 심사관은 도면의 내용 또는 공개가 충분한지를 판단한다. 수석도면사는 제출된 도면이 관련 규정에 적합한지를 확인한다.만약 최초 도면이 규정을 충족하지 못한다면 미국 특허청의 수석도면사는 해당 도면의 비정규성을 표시하고 이들을 보정하거나 새로운 도면을 요청할지를 판단한다.모든 도면은 신축성과 강도가 있는 흰색의 부드러운, 무광택, 내구성을 갖는 용지에 작성돼야 한다. 특히 도면의 여백 규정을 엄격하게 따라야 하며 이를 어기게 되면 도면을 거절하는 사유에 해당된다.즉, 도면에는 2.5cm의 상부 여백, 2.5cm의 좌측 여백, 1.5cm의 우측 여백 및 1.0cm의 바닥 여백이 제공돼야 한다. 또한 모든 도면에 선과 문자는 인디아 잉크 또는 동등한 질의 잉크를 사용해 균일하게 그려저야 한다. 흰 수정액의 사용은 인정되지 않는다.발명의 구성 부분 또는 부품은 일정한 비율에 따라 도시돼야 하며 논리적인 순서를 따라 도면의 설계 도는 배치가 이뤄져야 한다. 발명의 전체를 나타내는 도면이 우선하고 이어서 단면도 또는 상세한 그림이 따르는 것이 일반적이다.특히 일반적인 도면에서 더욱 상세한 순으로 도면을 배치하되 청구범위의 체제를 따르는 것이 바람직하다. 도면이 너무 커 한 장에 담을수 없는 경우에는 발명을 이해할 수 있도록 잘라내어 몇장의 용지에 그린다.또한 교차 평행선 지역 내에 각 선은 명확하고 특징적이야 한다.  문자와 그림이 구별되도록 문자의 형태를 선택해야 한다. 도면의 참고 번호 높이는 최소 8분의 1인치 이상이어야 한다.각각의 도면은 도면의 순서에 따라 일련번호가 할당돼야 한다. 연속적인 알파벳 문자를 사용한 동일 도면 번호는 동일 발명의 다른 배치 또는 유사한 도면을 나

▲ 미국 특허청 특허등록 이미지미국 특허청은 특허 명세서에서 공학적 도면이 아닌 설명적 도면을 요구한다. 설명적 도면이 공학적 도면보다 발명을 이해하는 데에 훨씬 도움이 되기 때문이다.도면에서는 물체선의 형태, 절단 평면선, 투영선, 숨겨진 선, 인출선(lead line) 등이 사용될 수 있다. 물체를 나타내는 선은 물체의 전반적인 형태 또는 윤곽을 나타내기 위해 활용한다.절단 평면선은 물체의 단면 위치를 나타내며 단일한 긴 선의 형태로 그려진다. 절단 평면과 관련된 도면의 수를 나타내는 번호는 이 선의 밑에 기재된다. 또한, 화살표의 방향은 단면이 보여지는 방향을 나타내도록 도시돼야 한다.투영선은 물체가 합쳐지는 부분의 분해도에 사용되며, 길고 짤은 대쉬의 반복적인 일점 쇄선으로 도시된다. 숨겨진 선은 숨겨진 면이나 가장자리를 나타내는 데에 사용되며 짧은 대쉬의 연속 형태인 점선으로 도시된다.인출선은 부품에 참고 번호를 연결하는 데에 사용도며, 연속된 짧은 대쉬로서 도시된다. 중심선은 교차되는 긴 선과 짧은 선으로된 형태로서 중앙을 나타낼 때 사용된다. 하지만 나타낼 필요가 없다면 일반적으로 사용하지 않는다.

▲ 미국 특허청 특허등록 이미지미국 특허 명세서에서 도면 음영은 빛이 45도 각도의 상부 좌측 코너로부터 발생되는 것처럼 표시해 나타낸다. 음영선은 대상물의 외형 또는 형상에 따라 그려진다.예를 들어 원토형 대상물은 평행선으로 음영을 나타낸다. 구형 대상물은 원형 음영선을 가진다. 거울에 비쳐 보이거나 빛나는 표면은 비스듬한 음영선을 이용한다.해칭 패턴은 재료가 발명이 대상일 때 사용된 재료의 형태를 나타내기 위해 사용된다. 목재의 음영선 형태는 나무 단면의 모양을 적절히 사용한다. 직물은 불규칙하고 자연스런 음영으로 표시한다. 각각의 채색은 단일 음영선 형태로 나타낸다.특히 기계적인 구성을 도시하는 경우에는 작은 볼트와 구멍 위의 나사선을 그리는 데에 나사산과 기어가 사용될 수 있다. 기어 도면에서는 기어 톱니 사이에 정확한 간격을 주기 위해 특별한 주의가 요청된다.표준 또는 일반적으로 사용되는 도면 부호는 명확하게 명세서에 언급되는 경우에 허용된다. 미국 특허청에 의해 승인된 그림 도면 부호도 사용될 수 있다.또한 부호 대신에 표로 작성된 표시는 구성요소, 그 조합 또는 회로를 나타내는 데에 사용될 수 있다. 다만 미국 특허청에서 사용되는 부호와 혼동을 발생시킬 우려가 있는 부호와 표로 작성된 것은 허용되지 않는다. 사진은 약식도면으로 간주될 뿐이며 적정한 도면으로 인정하지 않는다.

▲ 미국 특허청 특허등록 이미지특허 출원 명세서에는 도면이 포함될 수 있다. 특히, 전자 특허, 역학 특허에서는 많은 정보를 나타낼 수 있는 도면을 포함하는 것이 효율적이다. 의장특허에서는 도면이 유일한 공개 자료에 해당된다.미국 특허의 명세서에 설명되지 않은 특징이 도면에 포함된 경우에 도면을 바탕으로 청구항을 확장할 수 있다. 즉, 모호한 청구항의 범위를 해석하는 데에 도면이 사용된다. 한편 아래와 같이 방법 발명이거나 물질의 조성에 관한 발명이라면 도면이 필요하지 않다.1)특정재료로 이루어진 합판2)특수한 물질이 존재가 발명의 특징인 경우3)종이 또는 직물과 같은 물품을 염색하거나 표면을 씌우는 것4)특정 물질이나 조성으로부터 물품을 만드는 것미국 심사관은 심사과정에서 도면이 없는 출원을 심사하다가 도면이 필요하다고 판단하는 경우에 적절한 도면이 제출될 때까지 출원일을 유보할 수 있다.이 경우 통지가 있은 후 2개월 내에 도면을 제출해야 하고 도면의 제출에 따라 명세서도 보정해야 한다. 이렇게 도면이 제출되면 출원일이 할당된다. 미국 특허 출원에서 도면을 포함하면 다음과 같은 장점이 있다.1)상세한 도면을 통해 발명을 보다 쉽게 설명할 수 있다.2)공개된 기술적 사상을 포함하는 청구항의 보정이 가능하다.3)청구범위를 보정하는 경우에 "새로운 물질(new matter)"로 평가되지 않게해 한계를 극복할 수 있도록 한다.다만 발명의 범위를 도면에 의존하는 것은 위험할 수 있다. 발명을 정의하고 권리범위를 확정하는 것은 청구항을 통해서 이뤄진다. 도면은 청구항을 해석하고 이해하도록 지원한다.

▲ 미국 특허청 특허등록 이미지도면은 발명의 이해를 돕는 것을 목적으로 하며 발명의 모든 특징을 포함해야 한다. 즉, 발명과 관련된 신규한 특징들은 모두 포함돼야 한다. 또한 설명된 모든 중요 구조적 세부사항이 도시돼야 한다.다만 전형적인 특징들 모두 도면에 도시할 필요는 없다. 예를 들어 밸브, 모터, 전자 부품 등을 단순히 기호로 나타내기도 한다. 그러나 발명을 이해하는 데에 세부사항을 도시할 필요가 있는 경우에는 도면에 도시해야 한다.또한 선행기술은 도면에 나타내지 않으나 필요한 경우에는 "선행 기술"이라고 명시해 도면에 도시한다. 특허 변리사는 도면에 표시돼야 할 내용과 부호를 정한다. 도면은 도면사가 그리도록 한다.이때 도면사에게 발명의 중요한 특징에 대해 간단히 설명해 주거나 모형 또는 발명의 원형을 보내어 도면사가 용이하게 도면을 그릴수 있도록 지원해야 한다.원형이 없는 경우에는 청사진이나 사진 등을 제시하거나 특허 변리사가 직접 간단한 스케치를 제공해 줄 수도 있다. 이어서 도면사는 평면도, 입면도, 단면도, 투시도, 흐름도 등 다양한 조망도와 체계도를 선택해 도면을 작성한다.발명의 중요한 특징을 보여주기 위해 상세한 도면이 필요한 경우도 있다. 특정 도면을 첨부해야 할 지 모호한 경우에는 도면을 첨부하는 것이 좋다. 도면을 포함하지 않아 출원일이 부여되지 않을 수도 있기 때문이다.

▲ 미국 특허청 특허등록 이미지미국 특허 명세서에 기재되는 도면에는 3차원 투시도(isometric view)가 첫 번째로 도시되는 경우가 많다. 투시도는 발명에 대해 최대한의 정보를 제공하도록 제공되어 이해하기 쉽기 때문이다.통상적으로는 적어도 물체의 삼면을 볼수 있도록 도시돼야 한다. 정면도는 발명의 가장 중요한 특징 또는 형태를 보여주는 도면으로서 정면도의 도시 여부는 발명의 구조와 형태에 따라 선택된다.만약에 모든 도면이 중요한 경우에는 발명에 대해 가장 많은 양의 정보를 제공해 주는 도면을 선택하는 것이 합리적이다. 정면도가 선택되면 상부 평면도나 하부 평면도는 쉽게 결정되기 때문이다.표면이 복잡한 발명은 좌측면도와 우측면도를 준비하는 것이 바람직하다. 정면도, 측면도, 상부도면은 각각의 도면에 대한 관계를 보여줄 수 있도록 도시돼야 한다.단면도는 내부구조를 보여주는 도면으로서 대상물을 통과하는 절단면을 도시한다. 전체 부분도에서 단면도는 가장 긴 면을 따라 전체 대상물의 절단면을 도시하며 발명의 내부를 상세히 보여줄 때 이용된다.분리단면은 파쇄 또는 분리된 것을 제외하고는 전체 단면과 유사하다. 직선 대신에 절단 평면선이 서로 동일 평면에 있지 않은 내부의 상세한 것을 나타내는 데에 사용된다.

▲ 미국 특허청 특허등록 이미지미국 특허 명세서에 도시되는 도면 중 파쇄도는 구성 부품 사이의 관계를 나타내는 데에 사용된다. 특히 파쇄도는 복잡한 기계적 발명의 이해를 좀 더 쉽게 할  수 있다.전체에서 어느 부분이 서로 맞는지를 보여줄 수 있기 때문이다. 파쇄도를 그릴 때 동일 형태의 분리된 부분은 선연결 대시 또는 화살표, 묶음표 등에 의해 연결돼야 한다.그래프와 도표는 발명의 특허성을 설명하고 특성화시키는 데에 이용된다. 특히 그래프는 선행기술 기기의 특성과 관련된 발명의 상위 특성을 보여줄 수 있다.상위 특성에는 기계적 강도의 측정, 탄성 변형, 밀도, 특성 파장의 흡수성 등이 포함될 수 있다. 흐름도는 공정의 흐름을 보여주도록 일련단 단계를 보여주는 도면이다. 또한, 복잡한 화학 구조식도 특허 명세서에 포함될 수 있다.선택된 조직화합물에 있어서 최상이며 가장 간단한 형태를 보여주는 것이 바람직하다. 한편, 사진은 적정한 도면으로 간주되지 않고 약식 도면으로 간주된다.이에 따라 미국 특허청으로부터 고지된 날로부터 2개월 이내에 정식 도면으로 대체된다는 것을 전제로 출원일을 인정받는다. 프린팅된 사진은 인정되지 않는다.다만 crystalline structures, metatallurgical microstructure, textie fabrics, grain structures, ornamental effects와 같은 5가지 분류의 방법을 묘사할 때에는 사진도 정식 도면과 동등하게 분류된다.이때 사진은 흑백이어야 하고, "표면이 고른 용지에 희색 또는 브리스톨 판재"를 배경으로 나타내야 한다. 이를 따르지 않는 사진은 출원일 설정조차 인정되지 않는다.일반적으로 색채 도면과 색채 사진은 허용되지 않는다. 다만 미국 연방 특허규칙 37 C.F.R §1.84에 따른 요구사항의 포기와 색채 도면의 용인을 요청하는 수수료와 함께 출원되는 경우에만 특별히 허용될 수 있다.